PVD-процесс

Молекулярный уровень процесса PVD — модель

Напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы (англ. physical vapour deposition; сокращённо PVD) обозначает группу методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.

Различают следующие стадии PVD-процесса:

  1. Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление;
  2. Транспорт пара к субстрату;
  3. Конденсация пара на субстрате и формирование покрытия;

Содержание

Введение

К группе PVD-методов относятся перечисленные ниже технологии, а также реактивные варианты этих процессов.

Применение

PVD-процесс применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных,антизадирных, барьерных и т. д Процесс используется при производстве часов с золотым покрытием.

Материалами для напыления служат диски из титана, алюминия, вольфрама, молибдена, железа, никеля, меди, графита, хрома и их сплавов; ацетилен (для покрытий, содержащих углерод); азот.

С помощью PVD-процесса получают покрытия толщиной до 5 мкм, обычно после нанесения покрытия поверхность не требует дополнительной обработки.

Ссылки

PVD & CVD coatings applications. — Сайт о приложениях и свойствах покрытий. Архивировано из первоисточника 20 марта 2012. Проверено 15 мая 2010.

См. также


PVD-процесс.

© 2016–2023 mk-hram.ru, Россия, Барнаул, ул. Школьная 34, +7 (3852) 17-07-29